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Multischicht

Photonen-Plasma-CVD-Verfahren zur Synthese ultraharter Hochtemperatur-/Verschleißschutz-Schichtsysteme auf C-N-Basis bei Atmosphärendruck (Vo 530/18-1)

In der ersten Projektphase wurde gezeigt, dass es möglich ist stabile Plasmen mit Stickstoffzusatz mittels CO2-Laser an offener Umgebung bei Atmosphärendruck zu erzeugen. In Stichversuchen wurden mittels dieser Plasmen Schichten abgeschieden, die hinsichtlich Verschleißes sowohl der Schicht als auch des Reibpartnermaterials ausgezeichnete Eigenschaften aufweisen.

Ziel der Arbeiten in der zweiten Projektphase ist es, basierend auf Plasmen mit Stickstoffzusatz die C‑N‑Schichten und Schichtsysteme mit definierten Verschleißeigenschaften mit hohem Wirkungsgrad, zuverlässig und gut reproduzierbar abscheiden zu können. Dazu sollen die Prozessgrößen gezielt variiert und online gemessen werden. Es soll eine Korrelation zwischen Prozessgrößen, Schichtzusammensetzung, Schichtmorphologie und den Verschleißeigenschaften hergestellt werden.

Bild Multischicht

Fördermittelgeber

DFG

Laufzeit

01.04.2006 - 30.09.2008

Abteilungsleiter

Dr.-Ing. Thomas Seefeld

Tel.: +49(0)421 - 218 58000 (Zentrale)

+49(0)421 - 218 58040 (Durchwahl)